light box
امتیاز 2.62 منبع سیلیسید مکمل/ MOSFET بدنه نازک درین برای رژیم با طول گیت ۲۰ نانومتر">

نوع فایل : word
تعداد صفحات ترجمه تایپ شده با فرمت ورد با قابلیت ویرایش : 13
تعداد کلمات : 2000
مجله : IEEE
انتشار : 2000
ترجمه متون داخل جداول : ترجمه شده است
درج جداول در فایل ترجمه : درج شده است
منابع داخل متن : به صورت فارسی درج شده است
کیفیت ترجمه : طلایی
فونت ترجمه : ب نازنین 12
دسته بندی :
برچسب ها : ، ، ، ، ، ، ، ، ، ، ،

عنوان فارسی مقاله:منبع سیلیسید مکمل/ MOSFET بدنه نازک درین برای  رژیم با طول گیت ۲۰ نانومتر

چکیده

ترانزیستور بدنه نازک با منبع سیلیسید و با طول گیت ۱۵نانومتر ساخته شده است. مکمل سیلیسید  کم مانع ارتباط و مقاومت سری برای کاهش استفاده شد. حداقل طول گیت ترانزیستور را با Tox=40Å  نشان می دهند  PMOS |Idsat|=270µA/µmو NMOS |Idsat|=190µA/µm با Vds=1.5V, |Vg-Vt|=1.2V و Ion/Ioff>104 می باشد. یک مدل انتقال ساده برازش داده شده با داده های آزمایشی برای بررسی اثرات زنگ اکسید و دوپ شدگی استفاده می شود.

کلیه مقالات مرتبط را میتوانید در بخش ترجمه مقالات زیست شناسی ملاحظه کنید.

 

 Title: Complementary silicide source/drain thin-body MOSFETs for the 20nm gate length regime

Abstract

Thin-body transistors with silicide source/drains were fabricated with gate-lengths down to 15nm. Complementary low-barrier silicides were used to reduce contact and series resistance. Minimum gate-length transistors with Tox=40Å show PMOS |Idsat|=270µA/µm and NMOS |Idsat|=190µA/µm with Vds=1.5V, |Vg-Vt|=1.2V and, Ion/Ioff>104. A simple transmission model, fitted to experimental data, is used to investigate effects of oxide scaling and extension doping.

دیدگاهها بسته است.

محصولات مشابه
اثرات اینترفرون آلفا و درمان سیکلوسپورین به طور جداگانه و به صورت ترکیبی
خـریـد محـصـول
راهنمای ایمنی جاده، راهنمایی برای متخصصان، مدیریت ایمنی جاده، سیستم مدیریت ایمنی
خـریـد محـصـول
ساختار کریستال یا بلورین دومین اتصال RNA پروتئین نوکلئوکپسید SARS-CoV-2
خـریـد محـصـول
اثر روش‌های سنتز بر روی کارایی کاتالیزورهای سه راهه Pt + Rh/Ce0.6Zr0.4O2
خـریـد محـصـول
کاتالیزورهای سه راهه xZr1−xO2/Al2O3 Pd/Ce جدید تولید شده با میکرو امولسیون
خـریـد محـصـول
تثبیت محلول‌های جامد CeO2-ZrO2 با ساختار نانو با افزایش AL2O3
خـریـد محـصـول
اثر ضد میگرنی Δ۹-تتراهیدروکانابینول در موش صحرایی ماده
خـریـد محـصـول
کانابیدیول یک روش درمانی بالقوه برای بعد عاطفی-انگیزشی درد پس از عمل
خـریـد محـصـول
حساسیت مختص به گونه به تشنج‌های ناشی از مصرف ماری جوانا
خـریـد محـصـول
بهینه ساز بادبان ماهی: یک الگوریتم فراابتکاری الهام گرفته از طبیعت جدید
خـریـد محـصـول
ثبت اختراع یا انتشار مقاله

ثبت اختراع یا انتشار مقاله کدام اول باید انجام شود؟ پژوهشگران منابع مالی و غیر مالی بسیاری را صرف انجام تحقیقات و پژوهش ها میکنند و امکان دارد تعدادی از آنها تبدیل به دستاوردها و فناوری های نو گردد. محققان این نتایج را به سرعت در مقالات علمی ملی و بین المللی منتشر و به آن افتخار میکنند. اما باید مد نظر داشت، چنانچه دستاورد پژوهشی امکان تبدیل شدن به یک محصول یا فرآیند قابل استفاده و تولید در صنعت را داشته باشد، هر گونه انتشار عمومی از جمله مقاله باعث از دست رفتن شرط جدید بودن و در نتیجه عدم امکان ثبت فناوری به عنوان اختراع خواهد شد.

در نتیجه محققان و پژوهشگران باید پیش از هرگونه افشاء عمومی آن دسته از نتایج تحقیقاتی که شرایط ثبت اختراع را دارا می باشد به صورت اظهارنامه اختراع در اداره مربوطه ثبت و سپس نسبت به انتشار آنها اقدام کنند. امکان دارد مراحل ثبت اختراع چندین ماه به طول بیانجامد که انتشار مقاله (و مانند آن) پس از تاریخ ثبت اظهارنامه اختراع مشکلی را در فرآیند ثبت اختراع بوجود نمی آورد.

از آنجا که برخی دستاورد ها مانند روشهای تشخیص بیماری و نوآوری های مدیریتی قابلیت ثبت اختراع بین المللی و ملی را ندارند، محققان بدون نگرانی میتوانند انتشار در مقالات داخلی و خارجی را به عنوان اولین گزینه جهت کسب افتخار دست یابی به این قبیل پژوهشها انتخاب کنند.

برو بالا